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  • Dymek岱美儀器EVG620 NT-掩模對準光刻機系統(tǒng)

    EVG620 NT-掩模對準光刻機系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

    更新時間:2025-04-08
    型號:Dymek岱美儀器
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:6399
  • HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機系統(tǒng)

    光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動化功能,完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track系統(tǒng)基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。將HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,在這里將經(jīng)過預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,然后將結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓退回。

    更新時間:2024-11-09
    型號:HERCULES
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:4377
  • IQ Aligner NTDymek岱美中國儀器自動掩模對準系統(tǒng)

    ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件,新的晶圓處理硬件,可實現(xiàn)全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件,從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應(yīng)用的蕞苛刻要求,同時與競爭系統(tǒng)相比,擁有成本降低了30%。

    更新時間:2024-11-09
    型號:IQ Aligner NT
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2075
  • EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng)

    EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng),可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

    更新時間:2024-11-09
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2868
  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng)

    EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng) 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

    更新時間:2024-11-09
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:3784
  • IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng)

    IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

    更新時間:2024-11-09
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2702
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